高中人教版化学必修第二册:5.3 无机非金属材料含解析
课时作业 6 无机非金属材料
[学业达标]
1.我国已跨入“互联网+”时代,而“互联网”的建设离不开无机非金属材料硅。下
列物品中用到硅单质的是( )
A.陶瓷餐具 B.石英钟表
C.计算机芯片 D.光导纤维
2.下列关于无机非金属材料的说法不正确的是( )
A.传统无机非金属材料是指:玻璃、水泥、陶瓷等硅酸盐材料
B.新型无机非金属材料克服了传统无机非金属材料的缺点,具有极大强度
C.高温结构材料具有耐高温、耐酸碱腐蚀、硬度大、耐磨损、密度小等优点
D.传统无机非金属材料和新型无机非金属材料的主要成分都是硅酸盐
3.下列关于玻璃的叙述正确的是( )
A.玻璃是硅酸盐产品,有固定的熔点
B.玻璃是由几种成分熔化在一起而形成的晶体
C.玻璃的成分及各成分的比例固定不变
D.普通玻璃生产中所涉及的两个主要反应均有 CO2生成
4.下列说法正确的是 ( )
A.石英玻璃、玛瑙、水泥和餐桌上的瓷盘都是硅酸盐制品
B.红宝石、珍珠、水晶、钻石等装饰品的主要成分都是硅酸盐
C.氢氟酸能够雕刻玻璃
D.硅酸具有酸的通性,能使石蕊溶液变红
5.硅及其化合物在材料领域中应用广泛。下列叙述中,正确的是( )
A.右图是常见于汽车中的小摆件“苹果花”,它的动力是以 Si 为原料制作的太阳能电
池
B.晶体硅主要用途是制造光导纤维
C.硅是地壳中含量最多的元素
D.硅的化学性质很稳定,因此硅在自然界中以游离态形式存在
6.有关硅元素的下列叙述中正确的是( )
A.硅、碳与氢氟酸都不反应
B.硅是构成矿物岩石的主要原料,其化合态硅几乎全部是硅石和硅酸盐
C.硅与碳性质都很稳定,都能以游离态存在于自然界
D.晶体硅、石墨都可作半导体材料
7.我国具有独立知识产权的电脑芯片“龙芯一号”的问世,填补了我国计算机制造史
上的一项空白。下列对晶体硅的有关叙述正确的是( )
A.晶体硅和金刚石的物理性质相似
B.晶体硅的化学性质不活泼,常温下不与任何物质发生反应
C.晶体硅是一种良好的半导体材料,但是它的提炼工艺复杂,价格昂贵
D.晶体硅具有金属光泽,故它属于金属材料,可以导电
8.下列物质中,导电性介于导体和绝缘体之间的是( )
①晶体硅 ②金属铝 ③石墨 ④晶体锗 ⑤金刚石
A.只有① B.只有⑤
C.②和③ D.①和④
1
9.下列溶液中①碳酸钠溶液 ②氢氟酸 ③氢氧化钠溶液 ④氯化钠溶液,可以盛放
在玻璃试剂瓶中但不能用磨口玻璃塞的是( )
A.①③ B.②④
C.②③ D.①④
10.制备硅单质时,主要化学反应如下:
①SiO2(石英砂)+2C(焦炭)=====Si(粗硅)+2CO↑
②Si(粗硅)+2Cl2=====SiCl4
③SiCl4+2H2=====Si(纯硅)+4HCl,下列对上述三个反应的叙述中,不正确的是(
)
A.①③为置换反应
B.①②③均为氧化还原反应
C.②为化合反应
D.三个反应的反应物中硅元素均被还原
[等级突破]
11.下列有关硅及其化合物的说法正确的是( )
A.陶瓷、玻璃、水泥容器都能贮存氢氟酸
B.硅酸钠属于盐,不属于碱,所以硅酸钠可以保存在具有磨口玻璃塞的试剂瓶中
C.用 SiO2制取硅酸,应先使二氧化硅与氢氧化钠溶液反应,然后再通入 CO2
D.由 Na2CO3+SiO2=====CO2↑+Na2SiO3可知,硅酸的酸性强于碳酸
12.由二氧化硅制高纯硅的流程如下,下列说法中错误的是( )
A.SiHCl3的摩尔质量为 135.5 g
B.H2和HCl 均可循环利用
C.SiO2是一种坚硬难熔的固体
D.①②③均属于氧化还原反应
13.硅是构成无机非金属材料的一种主要元素,下列有关硅的化合物的叙述错误的是(
)
A.氮化硅陶瓷是一种新型无机非金属材料,其化学式为 Si3N4
B.碳化硅(SiC)的硬度大,熔点高,可用于制作高温结构陶瓷和轴承
C.光导纤维是一种新型无机非金属材料,其主要成分为 SiO2
D.二氧化硅为立体网状结构,其晶体中硅原子和硅氧单键个数之比为 1 2
14.硅是无机非金属材料的主角,硅的氧化物和硅酸盐约占地壳质量的 90%以上。
(1)计算机芯片和太阳能电池的主要成分是________,光导纤维的主要成分是________。
(填化学式)
(2)工艺师常用氢氟酸来雕刻玻璃,发生反应的化学方程式为________________________
________________________________________________。
(3)玉石的主要成分基本都属于硅酸盐,翡翠的主要成分为 NaAlSi2O6,用氧化物形式表
示为________________________________________________________________________。
(4)高纯度单晶硅可以按下列方法制备:
SiO2――→Si(粗)――→SiHCl3――→Si(纯)
写出步骤①的化学方程式:____________________________________________________
____________________。
步骤②的产物经过冷凝后得到的 SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量的 SiCl4(沸点57.6 ℃),
提纯 SiHCl3主要操作的名称是________。
步骤③需要在无水无氧环境下进行,若在有氧环境下,除了有不安全因素外,还可能使
产品中混有杂质________。
15.A、B、C、D四种易溶于水的化合物只由表中的八种离子组成,且四种化合物中阴、
2
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